X模耦合微波的ECR溅射装置的放电特征

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X模耦合微波的ECR溅射装置的放电特征

汪建华

【期刊名称】《华中理工大学学报》 【年(),期】1998(026)008

【摘 要】探讨采用真空波导及反常波模式微波输入技术,以避名微波石英窗口的污染,并研究了这种微波耦合模式装置中等离子体的放电特征。 【总页数】3(P53-55) 【作 者】汪建华

【作者单位】武汉工业大学 【正文语种】 【中图分类】O53 【相关文献】

1.微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征 [J], 李新;唐祯;邓新绿;徐军;张虹霞;杨梅

2.用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积法在玻璃上镀膜 [J], 孙洪福;汤华娟;承遇;陶瑛;邓新绿

3.双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术 [J], 徐军;邓新绿;张家良;陆文棋;马腾才

4.Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体 [J], 张治国;陈小锰;刘天;徐军;邓新禄;董闯

5.微波ECR等离子体高速溅射装置的研制 [J], 汪建华;袁润章;邬钦崇;任兆杏


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