两种等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜摩擦性研究

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两种等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜摩擦性研究

胡立琼;张跃飞;王瑜;陈强;葛袁静

【期刊名称】《北京理工大学学报》 【年(卷),期】2005()z1

【摘 要】采用平行板电容耦合射频辉光放电化学气相沉积(RF-PECVD)装置,在镀有TiN/Ti过渡层的碳钢表 面制备类金刚石膜(DLC),以及直接在基材表面制备掺氮的类金刚石膜,研究成膜内应力减小机理．通过对成 膜表面的傅里叶变换红外光谱(FTIR)、激光Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)的测试,分析成膜表面的组 分和微观结构对薄膜的性能影响．以薄膜表面摩擦因数的大小,初步评估试样的耐磨程度,研究α-C:H及 α-C:H(N)薄膜的摩擦学性能与其结构的关系． 【总页数】4页(P259-262)

【关键词】α-C:H(N)薄膜;等离子体化学气相沉积;摩擦磨损性能 【作 者】胡立琼;张跃飞;王瑜;陈强;葛袁静

【作者单位】北京印刷学院等离子体物理与材料研究室 【正文语种】中 文 【中图分类】O53 【相关文献】

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